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芯片廢氣處理(lǐ)方法-鑫藍(lán)β☆∏環保

文(wén)章(zhāng)出處:原創網責任編輯:蔡作(zuò)者:蔡人(rén)氣:-發表時(shí)間(jiān):2024-11-2σ₩"♥7 00:00:00【大(dà) 小(xiǎo)

   芯片廢氣處理(lǐ)方法主要(yào)依據廢氣成分(fēn)的(de)∏β 不(bù)同而有(yǒu)所區(qū)别。芯片 ✘≤<廢氣主要(yào)包括酸性廢氣、堿性廢氣、有(yǒu)機(jī)廢♠ 氣和(hé)特殊氣體(tǐ)。以下(xià)是( →shì)鑫藍(lán)環保對(duì)芯片廢氣處理(lǐ)方法的(de)詳細闡述:

   

  酸性廢氣處理(lǐ)

  酸性廢氣主要(yào)來(lái)源于芯片清洗和(hé)蝕​  ≈刻過程中使用(yòng)的(de)酸性化(huà)學試劑,如(r₽&ú)硫酸、鹽酸、氟化(huà)氫等,這(zhè)些(xiē)過程會↕<δ(huì)釋放(fàng)出氟化(huà)物(wù)、硫酸霧、氮氧化(huà)物(wù)π₹¶®、氯化(huà)氫等污染物(wù)。處理(lǐ)方法主要(yào)采用(yòng)↕™濕式洗滌塔,以堿性溶液為(wèi)吸收液進行(xíng)中和(hé)反應,去(qù)除廢 ​®氣中的(de)酸性成分(fēn)。同時(s‍¶££hí),配置多(duō)級噴淋和(hé)填料層以提高(gāo)淨化(huà)效σ♠率。

  堿性廢氣處理(lǐ)

  堿性廢氣主要(yào)産生(shēng)于刻蝕工(gōng)序和(hé)使λ∏用(yòng)氨水(shuǐ)的(de)工(gōng)藝過程中,主要(yào)成分(fēn)為¶₽γβ(wèi)氨氣(NH3)。處理(lǐ)方法同樣采用(yòng)濕式洗滌塔,但(dàn)使用(yòngσ∑∑")酸性溶液(如(rú)10%的(de)硫酸溶液)進行(xíng¶♠‌♠)中和(hé),去(qù)除廢氣中的(de)堿性成分(fēn)。

  有(yǒu)機(jī)廢氣處理(lǐ)

  有(yǒu)機(jī)廢氣主要(yào)來(lái)自(₩ ¥zì)光(guāng)刻、清洗等過程中的(de)有(yǒu)機(jī)溶劑,如(rú)丙酮、甲醇、$£✘二甲苯和(hé)異丙醇等,這(zhè)些(xi≥✘λ©ē)都(dōu)屬于揮發性有(yǒu)機(jī)化(huà)合物(wù)(VOCs)。處理(lǐ)方法有(yǒu)多(duō)種,包括但∏≤€(dàn)不(bù)限于:

  活性炭吸附法:利用(yòng)多(duō)孔固體(tǐ)吸附劑來(lái​±)處理(lǐ)有(yǒu)機(jī)廢氣,通π≥ $(tōng)過化(huà)學鍵力或分(fēn)子(z δ ǐ)引力充分(fēn)吸附有(yǒu)害成分(fēn),并将其♠±÷☆吸附在吸附劑的(de)表面,從(cóng)而達到(dào)淨化(h≥≈'"uà)有(yǒu)機(jī)廢氣的(de)目←★Ω 的(de)。當活性炭吸附飽和(hé)後,可(k™'∞ě)采用(yòng)熱(rè)空(kōng)氣或蒸汽對(du∑£✘ì)活性炭進行(xíng)再生(shēng)處理(lǐ),解吸出的(de)≠←高(gāo)濃度有(yǒu)機(jī)廢氣再進行(xíng)♦←↑燃燒或催化(huà)燃燒處理(lǐ)。

  燃燒法:在揮發性有(yǒu)機(jī)物(wù)在高(gāo)溫及空(kōn€₩γg)氣充足的(de)條件(jiàn)下(xià)進行(xíng)完全燃燒,分(fēn)解為(wè→αi)CO2和(hé)H2O。燃燒法适用(yòng)于各類有(yǒu)機(jī)廢£ "氣,可(kě)以分(fēn)為(wèi)直接燃燒$•、熱(rè)力燃燒和(hé)催化(huà)燃燒。

  UV光(guāng)解淨化(huà)法:利用(yòng)高(gāo)能(∑∑© néng)UV紫外(wài)線光(guāβ÷☆ng)束分(fēn)解空(kōng)氣中的(de)氧分(fēn)子(zǐ)産生(shēng)遊離(ε¥lí)氧,遊離(lí)氧與氧分(fēn)子(zǐ)結合産生(shēngγ¥)臭氧,臭氧具有(yǒu)很(hěn)強的(de)氧化(huà)性,通(tō<Ωδng)過臭氧對(duì)有(yǒu)機(jī)廢氣、惡臭♣‍氣體(tǐ)進行(xíng)協同光(guāng)解氧化(huà)作(zu≥↕ò)用(yòng),使有(yǒu)機(jī)廢氣、惡臭氣體(tǐ‌♠)物(wù)質降解轉化(huà)成低(dī‌≥☆∞)分(fēn)子(zǐ)化(huà)合物(wù)、CO2和(hé)H2O。

  此外(wài),還(hái)可(kě)以→§←Ω采用(yòng)旋轉式濃縮吸附(如(rú)沸石轉輪)結合熱(rè)氧化(£♣∑ huà)技(jì)術(shù)(RTO/RCO)來(lái)處理(lǐ)有‍☆ γ(yǒu)機(jī)廢氣。先通(tōng)過吸附濃縮有(yǒu)機(jī)廢氣,然後高(gāo♠ ∑)溫氧化(huà)分(fēn)解為(wèi)無害的(₩÷≈de)二氧化(huà)碳和(hé)水(shuǐ)。

  在實際應用(yòng)中,芯片廢氣處理(lǐ)往往采用(yòng)綜合處理π§→"(lǐ)工(gōng)藝,如(rú)“水(shuǐ)噴淋+UV光(₽♦‍guāng)氧+幹式過濾+活性炭吸附濃縮+催化(Ωσ≥✘huà)燃燒”的(de)組合工(gōng₹‌ )藝,或者“預處理(lǐ)+冷(lěng)凝回收+活性炭吸附+熱‌×(rè)再生(shēng)”的™÷'₩(de)組合工(gōng)藝等。這(zhè)些(xiē)綜合處理(lǐ)工(gōng)藝能(n✘±éng)夠更有(yǒu)效地(dì)去(qù)除廢氣中的(de)有(yǒu)ε←✘害物(wù)質,确保排放(fàng)達标。

鑫藍環保科技(昆山)有限公司多(duō)年(nián)來(lái)專注芯片廢氣處理(lǐ)設計(jì)、制(zhì)造和(hé)安裝。我們産品有(yǒu)RTO蓄熱(rè)焚燒RCO蓄熱(rè)催化(huà)燃燒、CO催化(huà)燃燒、TO直燃•π$爐、有(yǒu)機(jī)廢氣處理(lǐ)設備、冷(lěng)凝回收、防爆除塵器(qì)、酸堿廢氣處理(lǐ)、濾筒除塵器(☆✔ ←qì)、防爆除塵器(qì)、單機(jī)除塵器(qì)、倉頂除塵器(qì)、旋風(fēng)除塵器(qì)、洗滌塔、活性炭吸附、靜(jìng)電(diàn)除油設備等。

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